国家集成电路设计杭州产业化基地企业孵化器

　　一期占地约18亩，建筑面积20000平方米，共四幢大楼。平面设计采用院落型围合空间，建筑风格简雅大气，园区内花木葱郁，绿树成荫，环境非常优美。
　　大楼采用浅进深的大柱网全框架结构，空间组合非常灵活。楼高为四层到六层，平均层高底层为4.2米，二、三层为3.9米，四至六层为3.6米。
　　建筑面积1号楼4350平方米，2号楼3450平方米，3号楼6000平方米，4号楼6150平方米，楼面荷载标准每平方米3.5千牛。
　　建筑外墙采用花岗岩墙裙和高级面砖铺贴墙身，优质铝合金门窗。楼内配置有7台国内名牌电梯，预留户式中央空调机位，网络光纤每层预留通道，电话门子预设充分。采用双路供用，电力充足保证。
　　整个一期大楼采用先进的电子安保系统和人工安保24小时值守。办公区分隔采用钢化玻璃和轻质防火隔断，根据入驻企业规模提供500平方米、600平方米、700平方米到1000平方米、2000平方米的成建制空间划分，各入驻企业均有独立专属的门面，拥有优越的公司形象。园内楼层实行一卡通，所有楼层和大门均设置门禁系统。

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